中国的光刻机之路还很长

​阿斯麦的EUV光刻机每年产能有限，到2021年，累计出货量才刚突破百台。这些光刻机有一半在台积电手里，另一半集中在英特尔、三星等大厂手中。三家公司2012年没有白给阿斯麦投钱。而中国大陆，没有一台EUV。

中芯国际刚完成7nm技术的开发，要到2021年4月才可以进入风险量产；而拥有EUV光刻机的台积电，已经实现5nm芯片的量产，且2021年第一季度将进入3nm风险量产。而中国唯一一家能生产光刻机上海微电子，其最先进的光刻机能生产90nm芯片，这种制程无法满足当前手机、电脑等消费电子产品的需求。

光刻机最难的是光源、晶圆曝光台、对准系统和镜头。国产光刻机涉及几十个学科的顶尖难题，需要将这些难题都钻研一遍。同时还得找到顶级的供应商。阿斯麦90%的零部件来自外部采购，但这些零部件都是阿斯麦和供应商共同研发的，专利在阿斯麦手上。其实20世纪60年代，中国也曾研究过光刻机，但在“造不如买”思想下，放弃了光刻机领域的研发。

回顾阿斯麦成为霸主的过程：高远的顶层规划，困境中的自身坚持，以及市场和技术的平衡，万中无一的运气，这些因素缺一不可。追赶成了中国的必选项，技术差距虽大，但星光犹在。

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