铝电解电容在电容器中占二位，本来这类电容器是一般的直流电容器，由于它从材料、工艺、和结构上都发生了变化，从直流发展到交流，从低温发展到高温，从通用性发展到性，从一般结构发展到片式、扁平、书本式等结构，大容量扩扩展到4F左右，使用频率已达到30KHZ，工作温度已达到-55℃—125℃，额定电压已达到700v。

  在材料上，现在用的铝箔在成份和结构上都已经不要求高纯。为了提高起始腐蚀点数、机械强度及介质氧化膜的性能，箔中要适当含有些杂质，有的采用合金箔。

  在工艺上，铝电解电容器在工艺上的进展主要是腐蚀、赋能两个工艺。腐蚀工艺是根据对电容器的性能要求，腐蚀出不同坑洞形貌的铝箔。赋能工艺可以制造出的介质氧化膜，而且还可以根据要求不同，制造出不同的介质氧化膜。

  在结构上，主要有两种，一种是箔式卷绕形的，另一种是铝粉烧结多孔块状的，所用的固体电解质主要是MnO2。

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