20世纪60年代和70年代初，美国一直是芯片市场的霸主。但到80年代，日本凭借DRAM成功崛起。美国的光刻机产业随着半导体主要市场的变化遭受重击——GCA落寞，尼康壮大。为了继续巩固美国芯片市场，1997年，英特尔和美国能源部牵头成立了的EUV LLC联盟，希望能研发出EUV(极紫外线)光刻机，重拾半导体制霸权。这个联盟有美国能源部及其下属三大国家实验室，还有英特尔和摩托罗拉、AMD、IBM等科技公司，阿斯麦也成功入伙。作为回报，阿斯麦将替美国把光刻机龙头的桂冠从尼康头上摘下。

2004年，阿斯麦和台积电合作一年后，推出了第一台浸润式光刻机样机，波长能达到132nm，率先攻克芯片制程卡顿，并一举拿下IBM和台积电等大客户的订单。尼康虽然很快也推出了干式微影光刻机产品，但其光源只能做到157纳米，显然阿斯麦更胜一筹。到2007年，阿斯麦的光刻机市场份额已达到60%，首次超过尼康。

而真正让阿斯麦封神的，还是独门的EUV（极紫外线）光刻机。经过10年的研发，EUV联盟的几百位科学家努力，及52.29亿欧元投入，阿斯麦将EUV做到可量产，成为全球唯一一家具备推出光刻机产品的公司。尼康其实也懂EUV技术，但他们的技术也只能在实验室里走起来。自此，阿斯麦稳稳成为半导体光刻机领域的霸主，无可撼动。

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